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公开(公告)号CN116631866B | 申请号CN202310293807.8 | 专利类型发明授权 |
状态有效 | 国家或地区CN | 申请人江苏芯港半导体有限公司 |
分类号H10D8/01(2025.01), H10D62/10(2025.01), H10D8/60(2025.01) | 申请日2023-03-24 | 公开日2026-11-03 |
发布日期2026-11-03 | 文档 ID84696774562300003 | 源数据页码1650 |
专利语言zh | ||
本发明涉及一种具有垂直AlGaN/GaN异质结的GaN基肖特基二极管及其制备方法,所述制备方法包括以下步骤:一、外延材料生长;二、再生长凹槽制作及再生长;三、电极制作。其能降低漂移层的等效电阻,提高单位面积的电流密度和面积使用率,从而提高了二极管的正向电流密度。
附图 1