集思谱需要我帮你解读这件专利吗？
公开（公告）号CN117178349B | 申请号CN202280028882.5 | 专利类型发明授权 |
状态有效 | 国家或地区CN | 申请人东京毅力科创株式会社 |
分类号H01J37/32(2006.01), H10P72/00(2026.01), C23C16/458(2006.01), H05H1/46(2006.01) | 优先权2021.04.23 JP 2021-073411 | 申请日2022-03-31 |
公开日2026-11-03 | 发布日期2026-11-03 | 文档 ID84696767556400005 |
源数据页码1574 | 专利语言zh | |
本发明公开的等离子体处理装置中，基片支承部具有基座和电介质部。基座包括基体部件和电极。基体部件由电介质或绝缘体形成。电极形成于基体部件的上表面。电极构成基座的上表面。电介质部提供能够在其上载置基片的支承面。电介质部从基座的上表面延伸至支承面，仅由电介质形成。偏置电源和吸盘电源与基座的电极电连接。
附图 1