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公开（公告）号CN120341133B | 申请号CN202510056524.0 | 专利类型发明授权 |
状态有效 | 国家或地区CN | 申请人株式会社斯库林集团 |
分类号H10P72/00(2026.01), H10P76/20(2026.01), H10P50/20(2026.01), B05C5/02(2006.01), B05B15/50(2018.01), B05B15/55(2018.01), B05D1/26(2006.01), B08B1/16(2024.01), B08B1/30(2024.01) | 优先权2024.01.16 JP 2024-004682 | 申请日2025-01-14 |
公开日2026-10-30 | 发布日期2026-10-30 | 文档 ID84661694477600002 |
源数据页码28 | 专利语言zh | |
本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，在相对于基板相对地移动的狭缝喷嘴的前方侧配置有喷嘴防护件的基板处理装置中，能够不残留液体成分且有效去除附着于喷嘴防护件的异物，实现稳定且高品质的生产。本发明中，一边在使狭缝喷嘴的喷出口接近基板的表面的状态下从喷出口喷出处理液，一边使狭缝喷嘴及板状的喷嘴防护件相对于基板相对地移动，从而，一边利用在狭缝喷嘴相对地移动的相对移动方向上相对于狭缝喷嘴设置于前方侧的喷嘴防护件防止异物向狭缝喷嘴附着，一边向基板的表面涂敷处理液。在如此涂敷处理液之前，利用干式防护件清洁器从喷嘴防护件吸引去除异物。
附图 1