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公开（公告）号CN122938727A | 申请号CN202611252388.3 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人安徽富乐德长江半导体材料股份有限公司 |
分类号B24B37/005(2012.01), B24B49/12(2006.01), B24B49/10(2006.01), B24B57/00(2006.01) | 申请日2026-08-18 | 公开日2026-10-20 |
发布日期2026-10-20 | 文档 ID84597885031900004 | 源数据页码872 |
专利语言zh | ||
本发明公开了一种多模监控硅片CMP抛光液含量的自动系统，包括监控模块、图像采集与处理单元及自动补液控制模块。监控模块含视觉监测单元和电导率监测单元，分别采集抛光液图像与电导率数据；图像采集与处理单元提取污染指数；自动补液控制模块基于污染指数和电导率数据决策补液，通过执行机构补充新液并排出等量旧液。本发明通过双模态协同监测与闭环调控，实现抛光液状态智能维持，延长更换周期至72小时，提升工艺稳定性66.7%，稼动率提升2.3倍，适用于半导体CMP加工。
附图 1