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公开（公告）号CN122943753A | 申请号CN202611442200.1 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人北京理工大学;中国人民解放军国防科技大学 |
分类号G01B11/24(2006.01), G01B11/255(2006.01), G01B11/26(2006.01), G06N3/08(2023.01), G06F18/20(2023.01), G06F18/214(2023.01), G06F18/25(2023.01) | 申请日2026-09-17 | 公开日2026-10-20 |
发布日期2026-10-20 | 文档 ID84597877589000004 | 源数据页码830 |
专利语言zh | ||
公开一种非球面多参干涉测量离子束加工一体化方法，在统一装夹状态和坐标基准下完成非球面光学元件加工前后的在位干涉测量，能够减少工位转换、重复装夹和坐标重复转换对面形测量结果与离子束加工位置对应关系的影响。方法包括：（1）建立统一坐标基准；（2）加工前在位干涉测量和多参数组织；（3）构建真实加工事件数据；（4）搭建及训练SPC‑DeltaNet；（5）预测局部加工结果和重建完整口径面形；（6）离子束加工及加工后在位复测。
附图 1