阵列基板及其制备方法、显示面板 · CN122962854A

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公开（公告）号CN122962854A	申请号CN202611072497.7	专利类型发明专利
状态在审	国家或地区CN	申请人合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司
分类号G02F1/1343(2006.01), G02F1/1333(2006.01), G02F1/1362(2006.01)	申请日2026-07-17	公开日2026-10-23
发布日期2026-10-23	文档 ID84601343138900006	源数据页码74
专利语言zh

摘要

本公开涉及显示技术领域，提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，阵列基板包括：衬底基板；绝缘层，设置于所述衬底基板，所述绝缘层远离衬底基板的一侧设置有凹槽；电极图案，位于所述绝缘层远离所述衬底基板的一侧，所述电极图案设置于所述凹槽内，所述电极图案的厚度与所述凹槽的深度相同，所述电极图案远离衬底基板的表面与所述绝缘层在所述凹槽边缘处远离衬底基板的表面基本平齐，所述电极图案为栅极图案、源漏电极图案、第一透明导电图案和第二透明导电图案中的其中一者。

附图

附图 1