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公开（公告）号CN122971200A | 申请号CN202610452220.0 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人东京毅力科创株式会社 |
分类号H10P70/00(2026.01), H10P72/00(2026.01) | 优先权2025.04.22 JP 2025-070281 | 申请日2026-04-08 |
公开日2026-10-23 | 发布日期2026-10-23 | 文档 ID84601327947400000 |
源数据页码9 | 专利语言zh | |
一种基板处理方法和基板处理装置，抑制在使用了SPM的液处理的中途产生的基板的抖动。本公开的一个方式的基板处理方法包含：从配置于旋转的基板的上方的喷嘴按照第一处理条件供给硫酸与过氧化氢的混合液即SPM同蒸气的混合流体；测定被供给混合流体的基板的周缘部和中央部的温度；以及在供给混合流体的过程中周缘部与中央部之间的温度差为阈值以上的情况下，将处理条件从第一处理条件变更为第二处理条件，按照该第二处理条件对所述基板进行液处理。
附图 1