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公开(公告)号CN122982584A | 申请号CN202611027808.8 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人上海御微半导体技术有限公司 |
分类号G01M11/02(2006.01), G06T7/00(2017.01), G06V10/77(2022.01), G06T7/33(2017.01), G06T7/73(2017.01), G06V10/80(2022.01) | 申请日2026-07-10 | 公开日2026-10-27 |
发布日期2026-10-27 | 文档 ID84635794673900005 | 源数据页码1551 |
专利语言zh | ||
本公开提供了一种光学量检测设备的物镜波像差原位测量方法和系统。构建方法包括:基于待测光学量检测设备的硬件参数建立矢量成像前向模型;在预设像差波动范围内生成多组Zernike像差系数样本,利用矢量成像前向模型分别计算多种检测标记在各Zernike像差系数样本和多个离焦位置下的仿真离焦图像集;对每种检测标记对应的仿真离焦图像集进行数据降维处理,获取每种检测标记对应的若干目标特征分量及其目标特征系数;基于目标特征系数和Zernike像差系数样本,构建映射关系模型。本公开能够实现对光瞳的全面、高效采样。
附图 1