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公开（公告）号CN122984293A | 申请号CN202611162176.6 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人上海华力集成电路制造有限公司 |
分类号G03F7/30(2006.01), B05B3/02(2006.01), B05B13/02(2006.01), B05D1/00(2006.01), B05D1/02(2006.01), H10P76/20(2026.01) | 申请日2026-07-31 | 公开日2026-10-27 |
发布日期2026-10-27 | 文档 ID84635793416900006 | 源数据页码1537 |
专利语言zh | ||
本发明提供了一种显影喷淋装置及显影方法，其中显影喷淋装置包括喷淋基座、同心环形喷淋组件及独立电控阀组；同心环形喷淋组件固定于喷淋基座上，同心环形喷淋组件包括多个喷淋环且沿径向由内至外依次划分为内圈喷淋环、中圈喷淋环、外圈喷淋环；独立电控阀组分别与同心环形喷淋组件独立连接。本发明通过独立电控阀组动态调节内圈喷淋环、中圈喷淋环、外圈喷淋环的喷淋参数，可以提高晶圆不同区域线宽均匀性，解决线宽均匀性不足的问题。
附图 1