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公开(公告)号CN122995737A | 申请号CN202611085787.5 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人华天科技(江苏)有限公司 |
分类号H10W74/47(2026.01), H10W74/01(2026.01) | 申请日2026-07-21 | 公开日2026-10-27 |
发布日期2026-10-27 | 文档 ID84635771630600009 | 源数据页码9 |
专利语言zh | ||
本发明提供了一种干膜结构及其制备方法,其有效阻挡等离子体对干膜基体的刻蚀,避免填料外露与表面损伤,从根本上解决干膜可靠性开裂的问题;同时兼容现有封装与干膜生产制程,不影响干膜原有核心性能,量产性好、成本可控。其包括:干膜层,其包括填料、有机树脂,所述有机树脂将填料封装设置;以及有机钝化层;所述干膜层的表面设置有所述有机钝化层。
附图 1