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公开（公告）号CN123014820A | 申请号CN202611516750.3 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人同济大学 |
分类号G06Q10/0639(2023.01), G06Q50/04(2012.01), G06F18/15(2023.01), G06F18/213(2023.01), G06F18/25(2023.01), G06N3/0464(2023.01), G06N3/0442(2023.01), G06N3/045(2023.01), G06N3/09(2023.01) | 申请日2026-09-28 | 公开日2026-10-30 |
发布日期2026-10-30 | 文档 ID84661722163700004 | 源数据页码1621 |
专利语言zh | ||
本发明公开了一种TFT‑LCD连续关联工序关键质量指标虚拟量测方法及系统，包括：获取TFT‑LCD制造过程中连续关联工序的生产过程数据并进行工序划分及预处理；将目标关联工序的工艺参数序列与前序关联工序的质量指标序列融合，构建关联工艺输入序列；对所述关联工艺输入序列进行多尺度时序特征提取和双向时序建模，并提取跨多个时间节点的时间模式特征进行注意加权；利用历史质量指标训练虚拟量测模型，并按照与训练阶段相对应的数据处理规则处理待量测生产数据，输出关键质量指标虚拟量测结果。本发明能够综合利用连续工序间的质量关联信息和工艺参数的时序特征，提高对TFT‑LCD复杂制造过程关键质量指标的时序表征和预测能力。
附图 1