集思谱一种正极用底涂浆料及其制备方法与应用
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公开（公告）号CN123017970A | 申请号CN202611225669.X | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人江阴纳力新材料科技有限公司 |
分类号H01M4/62(2006.01), H01M4/525(2010.01), H01M4/131(2010.01), H01M10/052(2010.01), H01M4/66(2006.01), H01M4/36(2006.01) | 申请日2026-08-13 | 公开日2026-10-30 |
发布日期2026-10-30 | 文档 ID84661696422500007 | 源数据页码48 |
专利语言zh | ||
摘要
本申请提供一种正极用底涂浆料及其制备方法与应用，所述制备方法包括如下步骤：（1）混合粘结剂与有机溶剂，得到胶液；（2）混合勃姆石、抗氧化剂、分散剂和有机溶剂，得到勃姆石分散液；（3）混合所述胶液、勃姆石分散液和碳纳米管，搅拌后得到正极用底涂浆料；其中，步骤（1）和步骤（2）不分先后顺序。本申请采用勃姆石和碳纳米管与特定的抗氧化剂和分散剂协同配合，有效抑制钴酸锂在高工作电压下电解液中的微量水分和活性氧对铝箔的腐蚀，还提高了底涂浆料的稳定性和分散性，进而提高了钴酸锂电池的循环寿命。
附图
附图 1
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