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公开(公告)号CN123021689A | 申请号CN202610965644.7 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人珠海零边界集成电路有限公司 |
分类号H10D12/00(2025.01), H10D12/01(2025.01), H10D30/01(2025.01), H10D30/64(2025.01), H10D62/17(2025.01), H10D62/82(2025.01), H10D62/00(2026.01) | 申请日2026-06-30 | 公开日2026-10-30 |
发布日期2026-10-30 | 文档 ID84661692960700016 | 源数据页码15 |
专利语言zh | ||
本申请提供了一种半导体器件的终端结构及其制备方法、半导体器件、用电设备,涉及半导体技术领域。该终端结构包括:漂移层;栅极;栅极设置于漂移层的一面;第一掺杂分部;沿栅极的延伸方向,至少部分第一掺杂分部包裹栅极的端部;第一掺杂分部的掺杂类型与漂移层的掺杂类型不同。终端结构中,第一掺杂分部可以与漂移层形成异质结,从而降低栅极的端部的电场强度和载流子密度,降低碰撞电离率,降低发生雪崩击穿失效的风险,提升终端结构的可靠性。
附图 1