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公开(公告)号CN123021798A | 申请号CN202510551042.2 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
分类号H10F39/10(2025.01), H10F39/00(2025.01), G01V3/00(2006.01) | 申请日2025-04-28 | 公开日2026-10-30 |
发布日期2026-10-30 | 文档 ID84661717075100008 | 源数据页码1565 |
专利语言zh | ||
本申请实施例提供一种平板探测器及其制备方法、探测装置,平板探测器包括衬底基板、多个像素单元、金属走线层、第一钝化层、第一电极层,金属走线层设置于像素单元背离衬底基板的一侧,包括电连接的第一偏置线和第二偏置线;第一钝化层上限定有第一过孔,第一过孔位于显示区内;第一电极层设置于第一钝化层背离衬底基板的一侧,第一电极层通过第一过孔与第二偏置线电连接。根据本申请的技术,第一电极层和第二偏置线在显示区内通过第一过孔进行接触连接,以使第一过孔与闪烁体层容易发生吸水潮解的边缘错开设置,从而避免闪烁体层的边缘发生吸水潮解进而通过第一电极层和金属走线层连接的过孔腐蚀金属走线层,使金属走线层产生腐蚀的现象。
附图 1