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公开(公告)号CN123022989A | 申请号CN202580025035.7 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人ASML荷兰有限公司 |
分类号G03F1/62(2006.01), G03F7/00(2006.01) | 优先权2024.03.28 EP 24167405.0;2024.08.26 EP 24196466.7;2024.12.05 EP 24217845.7 | 申请日2025-03-06 |
公开日2026-10-30 | 发布日期2026-10-30 | 文档 ID84661711612600003 |
源数据页码226 | 专利语言zh | |
提供一种用作EUV利用设备中的表膜的隔膜,所述隔膜包括具有以下各项中的一个或两个的随机定向的未涂覆碳纳米管:i)小于5 nm的平均直径和小于30 nm的束(平均)直径,其中,所述隔膜的杨氏模量大于10 MPa;和ii)为所述纳米管提供粗糙度以使得所述CNT管在膜中的相对移动基本上被阻断或抑制的表面特征。也提供一种用于EUV利用设备的表膜,所述表膜包括这样的隔膜和用于支撑所述隔膜的支撑框架,以及一种包括这样的隔膜或表膜的EUV利用设备。也提供一种制造用于EUV利用设备的隔膜的方法。
附图 1