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公开(公告)号CN123031654A | 申请号CN202610933646.8 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人三星电子株式会社 |
分类号G06F30/39(2020.01), G06T15/00(2011.01), G06T17/20(2006.01) | 优先权2025.05.02 IN 202541042851;2026.05.01 IN 202541042851 | 申请日2026-06-26 |
公开日2026-11-03 | 发布日期2026-11-03 | 文档 ID84696786721800008 |
源数据页码272 | 专利语言zh | |
描述了用于生成芯片布图的仿真就绪的稀疏三维(3D)表面的系统和方法。所述方法包括:接收参数化3D模型和蚀刻信息,参数化3D模型包括多个要素3D块。蚀刻信息对表示芯片布图的参数化3D模型中的蚀刻循环进行标识。所述方法包括:基于蚀刻信息生成包括蚀刻袋的稀疏3D表面。蚀刻袋被配置为将蚀刻循环中断。所述方法包括:基于制造序列,针对减少蚀刻循环而将渲染顺序分配到所述多个要素3D块中的每个。与上制造序列对应的要素3D块被分配比与下制造序列对应的要素3D块的渲染顺序高的渲染顺序。所述方法包括:基于蚀刻袋和渲染顺序,生成仿真就绪的稀疏3D表面。
附图 1