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公开（公告）号CN123037052A | 申请号CN202580022596.1 | 专利类型发明专利 |
状态在审 | 国家或地区CN | 申请人株式会社德宇半导体技术 |
分类号H10P76/00(2026.01), H10P72/00(2026.01), H10P50/28(2026.01), H10P72/76(2026.01), G03F7/00(2006.01) | 优先权2024.05.02 KR 10-2024-0058536;2024.05.02 KR 10-2024-0058537;2024.05.02 KR 10-2024-0058538 | 申请日2025-02-17 |
公开日2026-11-03 | 发布日期2026-11-03 | 文档 ID84696780748800002 |
源数据页码227 | 专利语言zh | |
本发明涉及一种电势势垒生成模块及包括其的光刻装置，具体涉及一种能够最大限度减少光刻装置等真空系统内异物流动的电势势垒生成模块及包括其的光刻装置。
附图 1